國產(chǎn)等離子清洗機的核心結(jié)構(gòu)圍繞等離子體生成與樣品處理需求設(shè)計，主要包含以下模塊：
 

　　①控制單元
 

　　采用半自動、全自動、PC電腦或液晶觸摸屏控制方式，實現(xiàn)參數(shù)調(diào)節(jié)、設(shè)備監(jiān)控及故障診斷。部分機型支持PLC控制，確保操作精度與穩(wěn)定性。
 

　　②真空腔體
 

　　由不銹鋼或石英材質(zhì)制成，提供穩(wěn)定的真空環(huán)境。腔體容積根據(jù)處理需求設(shè)計，可容納單件或多件樣品，支持平行電極板布局以提升處理均勻性。
 

　　③等離子體發(fā)生器
 

　　通過射頻電源(如13.56MHz)或微波電源激發(fā)氣體(如氬氣、氧氣)生成等離子體，包含離子、電子、活性基團等高活性物質(zhì)。
 

　　④真空系統(tǒng)
 

　　配備干式泵或油泵，維持腔體真空度(約100Pa)，確保等離子體穩(wěn)定生成。系統(tǒng)集成真空計、電磁閥等組件，實現(xiàn)真空度準(zhǔn)確控制。
 

　　⑤氣體輸送系統(tǒng)
 

　　通過流量控制器準(zhǔn)確導(dǎo)入工藝氣體(如氧氣用于氧化、氮氣用于惰性保護)，支持多氣體混合處理以適應(yīng)不同工藝需求。
 

　　國產(chǎn)等離子清洗機通過以下步驟實現(xiàn)樣品表面處理：
 

　　真空環(huán)境建立：真空泵將腔體氣體抽至設(shè)定真空度，為等離子體生成提供條件。
 

　　等離子體激發(fā)：射頻電源在腔體內(nèi)產(chǎn)生高壓交變電場，激發(fā)氣體分子離化為等離子態(tài)，生成包含離子、電子、活性基團的高活性物質(zhì)。
 

　　物理轟擊：高能離子撞擊樣品表面，去除附著污染物(如油脂、微顆粒)。
 

　　化學(xué)反應(yīng)：活性基團(如氧自由基)與表面有機物反應(yīng)，生成揮發(fā)性物質(zhì)(如CO?、H2O)，被真空泵抽離。
 

　　表面改性：等離子體中的自由基與表面分子反應(yīng)，引入極性基團(如羥基、羧基)，提升表面能，改善潤濕性、粘附性。